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真空鍍膜機蒸發鍍膜工作原理

真空蒸發鍍膜是PVD技術中發展zui早、應用較為廣泛的鍍膜技術。盡管后來發展起來的濺射鍍和離子鍍在許多方面要比蒸鍍*，但真空蒸發技術仍有許多優點，如設備與工藝相對比較簡單，即可鍍制非常純凈的膜層，又可制備具有特定結構和性質的膜層等，仍然是當今非常重要的鍍膜技術。近年來，由于電子轟擊蒸發，高頻感應蒸發及激光蒸發等技術在蒸發鍍膜技術中的廣泛應用，使這一技術更趨完善。

將膜材置于真空鍍膜室內，通過蒸發源加熱使其蒸發，當蒸發分子的平均自由程大于真空鍍膜室的線性尺寸時，蒸汽的原子和分子從蒸發源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的沖擊阻礙，可直接到達被鍍的基片表面，由于基片溫度較低，便凝結其上而成膜。

板式換熱器(板式冷卻器)是在兩兩相鄰的傳熱板片所形成的狹窄而曲折的通道中流過，冷、熱介質依次通過各自流道，中間隔一層傳熱板片，冷、熱介質的傳熱過程實際上就是熱介質的熱能傳遞給冷介質的過程。在此過程中溫度較高的介質通過傳熱板片將熱能傳遞給溫度較低的介質，熱介質被冷卻，冷介質被加熱，通過熱能轉移來實現熱工工藝的要求。