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詳細介紹
超純水設備
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常用工藝：
1.RO+離子交換
特點：適用于原水水質較好的條件，投資較少，自動化程度相對較低，適用于出水品質在10—15兆歐/厘米。
2.RO+EDI
特點：自動化程度較高，出水品質穩定，適用于出水品質在15—17兆歐/厘米
3. RO+EDI+拋光床。
特點：自動化程度較高，投資較大，出水品質優良，適用于出水品質在17—18.3兆歐/厘米
為了保障您的實際生產需求，針對選擇工藝，請咨詢我司技術人員。
基本參數
| 指標 | 參數 |
| EDI要求： | 反滲透RO產水，電導率1-50μs/cm，允許電導率≤50μs/cm |
| pH值： | 7.5—9 |
| 溫度： | 15℃--35℃ |
| 進水壓力： | 0.15—0.4MPa |
| 濃水進水壓力： | 0.10—0.3MPa |
| 產水壓力： | 0.05—0.25MPa |
| 濃水出水壓力： | 0.02—0.2MPa |
| 進水硬度： | ＜1.0ppm(以CaCO 計） |
| 進水有機物： | TOC＜0.5ppm |
| 進水氧化劑： | Cl2（活性）＜0.03ppm |
| 進水硅： | SiO2＜0.5ppm |
| 進水總CO2： | ＜3ppm |
| 進水顆粒度： | ＜1μm |
產品特點
①產品水品質高，長期運行產品水水質穩定。
②自動化程度高，操作管理簡單，勞動強度低
③不會因再生而停機，連續再生，無需停機。
④不需化學再生，無污水排廢
⑤運行費用低，能耗低
⑥占地面積小，廠房投資少
應用行業
2、電子工業：半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線框架、集成電路、印刷電路板、液晶顯示器、觸摸屏、眼鏡鏡片、數碼相機鏡片、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用超純水。
3、生物醫藥工業：生物技術用水、醫藥生產用水、生化制品用水、針劑、粉針劑、藥劑、大輸液、科研無菌水、口服液等符合GMP標準。
4、化工工業：化工工藝用水、化學試劑、化工生產用水、精細化工、化妝品、洗潔精、洗衣液、打印機墨水等生產工藝用純水。
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